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  • VERITAS-3000 / 3100
VERITAS-3000 / 3100 (자동 스테이지)
  • 1. 간단하고 이해하기 쉬운 사용자 인터페이스.
    2. 넓은 영역의 시료 관찰 및 대형 샘플 비파괴 분석 가능.
    3. X 10 ~ X 300,000 배율의 높은 성능.
    4. 편리한 자동 기능
        - Auto Focus, Auto Brightness & Contrast,
          Auto Gun Alignment, Auto Saturation
    5. 고해상도 이미지 구현.
        - Veritas-3000 : 3nm (30kV SE Image)
        - Veritas-3100 : 3nm (30kV SE Image) /
                               4nm (BSE Image)
    6. 시료 장착 후 3분 이내 분석 가능
  • 7. 진공모드
        - Veritas-3000 : High Vacuum only (<9 x 10-3Pa)
        - Veritas-3100 : Variable Pressure(10 ~ 230Pa)
    8. 검출기
        - Veritas-3000 : SE(ET Type)
        - Veritas-3100 : SE(ET Type) / BSE(4Channel, Semiconductor)
    9. 독자적인 제품 개발로 신속하고 빠른 A/S
    10. Optional Detector 부착으로 다양한 종류의 시료분석 가능.
         - 4Channel BSEEDSEBSDWDSCL
           Raman SpectroscopyLaB6 / Cebix Upgrade
           E-beam Lithography3D ImagingChamber Camera
  • 11. 완전한 5축 유센트릭 스테이지 시스템 (5축 초장축 자동스테이지 탑제)
          - Chamber 내부크기 : 230(W) x 210(D) x 260(H) mm
          - 최대 샘플 크기 : 가로 : 210mm, 세로 : 65mm
          - 최대 샘플 무게 : 2kg
          - 스테이지 이동 범위 : X,Y : 120mmZ : 5 ~ 65mmT : -20° ~ 90°R : 360°
  • 분석가능 시료
  • 1. Large Sample Analysis
      기존의 Genesis 제품으로 분석이 불가능했던 큰 시료의 분석이 가능. ex) Wafer, Disk
  • 2. Non-destructive Sample Analysis
      대형 시료의 비파괴 분석이 가능.
      ex) PCB, Semiconductor pattern Analysis
  • 3. Heavy Sample Analysis
      최대 2kg 무게의 시료 분석이 가능.
      ex) Rock, Iron Ore
  • VERITAS Image (3000 / 3100)
※ 본, 이미지는 제품의 이해를 높이기 위해 제작된 이미지로 실제 제품과 형태, 색상, 재질, 크기, 내용 등에 있어 다소 차이가 있을 수 있습니다.